光敏印章制作技術的分析與研究論文（電子機械論文）

　　光敏印章制作技術的分析與研究論文（電子機械論文）
　　摘 要：結合光敏印章的制作原理，對光敏印章的制作流程進行了詳細的分析，提出了提高光敏印章制作質量的技術要點及解決方法。
　　關鍵詞：光敏印章；制作流程；技術要點
　　光敏印章以其制作快捷、蓋印效果清晰、環(huán)保無污染等特點逐漸成為了目前印章刻制的首選。近幾年，光敏印章材料及光敏印章機的生產和應用在我國取得了飛速的發(fā)展。
　　1 光敏印章的原理
　　光敏技術指的是利用光敏材料的感光特性進行印章制作的方法。專用的光敏材料是一種超微泡材料，其表面的微孔孔
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光敏印章的制作流程
　　光敏印章的具_作流程圖為：
　　系統(tǒng)軟件排版à激光打印機à硫酸紙/感光膠片à光敏印章機
　　(1)首先使用排版軟件將印章排版，目前國內常用的印章排版軟件有很多種。由于光敏印章的高清晰性，目前很多光敏印章排版軟件都具有編排指紋防偽、邊框防偽細條紋等功能，用戶可以這些利用隨機生成的防偽紋，排版出防偽印章。(2)激光打印機打印章稿。印章排版好以后，需利用激光打印機將章稿打印在硫酸紙或透明膠片上。此時，要求激光打印稿具有足夠的黑度及均勻度。否則將嚴重影響光敏章的制作質量。部分用戶采用二手激光機或噴墨打印機打印章稿，看似節(jié)省了打印成本，其實是揀了芝麻丟了西瓜。
　　(3)光敏印章機曝光：將打印了章稿的硫酸紙或膠片覆蓋上透明曝光膜及光敏印章墊。三者之間的順序及朝向依次為章稿背面向曝光光源，章稿打印面貼曝光膜，曝光膜貼印章墊，三者依次平穩(wěn)緊密接觸，中間嚴禁有間隙式皺折。三者壓緊后曝光既可。
　　3 光敏印章機技術研究與分析。
　　光敏印章機的技術性能對光敏印章的制作質量起著至關重要的作用。光敏印章機主要包含光敏燈管電源及光敏印墊機械壓緊裝置兩大部分。
　　光敏機的電源部分包含電容的充放電部分及光敏燈管的觸發(fā)電路部分，通常采用倍壓充電的方式，充電電壓在400v-600v時可以觸發(fā)光敏燈管導通曝光。充電電路中充電電容一般采用450v，1ooouf電解電容串并聯(lián)構成。選擇高品質、高穩(wěn)定性的電解電容可以提高光敏機整機的穩(wěn)定性和可靠性。目前光敏印墊的種類繁多，不同印墊要求的曝光能量也千差萬別。曝光能量不足會造成印章邊界模糊，不清晰，而曝光過度又會造成章面吸油性變差，影響蓋章質量。一般要求光敏印章機單根燈管曝光能量最大能達到600焦耳以上，雙管光敏機的能量最大能達到1200焦耳以上。同時，根據印墊種類的不同，要求光敏機的曝光能量能夠根據印墊的不同要求平滑可調。目前國內光敏機多采用雙光敏燈管設計，由于每根管子的導通性不可能完全一樣，在進行電路設計時，應該采用兩組獨立的電容充放回路。這對提高光敏燈管的壽命，提高整機的穩(wěn)定性是非常重要的。
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